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本发明公开一种相移式光掩模及其制造方法。相移式光掩模包括基板、相移层与透明层。相移层设置于基板上，且具有开口。透明层设置于开口中。上述相移式光掩模可具有较大的聚焦深度宽容度。...
该专利属于力晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过力晶科技股份有限公司授权不得商用。

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