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本发明涉及一种用于基于预定的掩模结构生成晶片结构的光刻工艺的仿真的方法，包括以下步骤：提供掩模的包含掩模结构的区域的空间像；预定强度范围；对于强度范围内的不同阈值，确定辅助晶片结构或可能的晶片结构；对于辅助晶片结构或可能的晶片结构中的每一个...
该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。

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