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本发明涉及一种在半导体处理装置中动态调节喷头倾斜的致动器。本文公开提供了一种喷头模块调节机构，其支撑在半导体衬底处理装置中的所述顶板中的喷头模块，所述喷头模块调节机构能动态地操作以在半导体衬底处理装置中相对于衬底基座模块的与所述面板邻近的上...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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