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本发明涉及具有防滑和防旋转特征的晶片支撑基座。提供了一种用于半导体处理的装置，其包括基座，所述基座包括晶片支撑表面，所述晶片支撑表面包括多个台和凹槽结构。每个台可以被界定在两个或更多个凹槽之间，每个台可以包括多个台侧壁，台侧壁至少部分地与凹...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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