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描述了适用于互补电子束光刻(CEBL)的光刻装置和涉及其的方法。特定实施例针对用于电子束直写(EBDW)光刻的下方吸收和/或传导层的实施方式。...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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