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本发明涉及一种从其上具有抗反射涂层ARC材料及/或蚀刻后残留物的衬底去除所述ARC材料及/或蚀刻后残留物的液体去除组成物及方法。所述组成物在集成电路的制造中实现ARC材料及/或蚀刻后残留物的至少部分去除同时对所述衬底上的金属物质(例如铝、铜...
该专利属于恩特格里斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩特格里斯公司授权不得商用。

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