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本发明公开了一种双腔式等离子体沉积镀膜方法，包括如下步骤：(1)抽真空；(2)放置衬底并调整到所需的工艺位置；(3)向第一反应腔室和第二反应腔室内通入工艺气体，同时，向清洗气体进气通道内通入氮气；(4)调整两个反应腔室内的压力；(5)预热衬...
该专利属于沈阳拓荆科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳拓荆科技有限公司授权不得商用。

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