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半导体器件以及具有该半导体器件的反相器制造技术
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下载半导体器件以及具有该半导体器件的反相器的技术资料
文档序号:15879526
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本发明公开了一种CMOS器件和CMOS反相器。CMOS器件包括:衬底,其具有在第一方向上延伸且由器件隔离层限定的有源线,所述衬底被划分为NMOS区、PMOS区以及介于NMOS区与PMOS区之间且具有器件隔离层而不具有有源线的边界区;栅线,其...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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