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本发明的实施例提供了一种半导体制造设备，包括处理室、至少一个反射器和至少一个电磁波发射器件。反射器存在于处理室中。在处理室中，电磁波发射器件存在于反射器与晶圆之间。电磁波发射器件配置为向晶圆发射电磁波光谱。关于电磁波光谱，反射器具有对于Al...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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