温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开实施例提供一种半导体装置,包括设置于基板上方的第一层间介电层,金属导线,设置于第一层间介电层和金属导线上方的第二层间介电层,第一空气间隙和第二空气间隙。金属导线内嵌于第一层间介电层中,金属导线之间以第一间隙或第二间隙配置,第二间隙的长...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开实施例提供一种半导体装置,包括设置于基板上方的第一层间介电层,金属导线,设置于第一层间介电层和金属导线上方的第二层间介电层,第一空气间隙和第二空气间隙。金属导线内嵌于第一层间介电层中,金属导线之间以第一间隙或第二间隙配置,第二间隙的长...