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本发明公开了一种提高光致抗蚀剂与铜附着力的附着力促进剂及其使用方法，该附着力促进剂主要由5～15g/L含氮杂环共聚物、1～10g/L含羟基的溶剂、20～60g/L有机酸、25～100ppm卤素离子和余量去离子水组成，其中含氮杂环共聚物是由含...
该专利属于昆山市板明电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山市板明电子科技有限公司授权不得商用。

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