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集成电路器件制造技术
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文档序号:15643911
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本公开提供了集成电路器件。一种集成电路器件包括:鳍型有源区域,从基板突出并具有在第一水平面处的上表面;纳米片,平行于鳍型有源区域的上表面延伸并包括沟道区域,纳米片位于与鳍型有源区域的上表面间隔开的第二水平面处;栅极,设置在鳍型有源区域上并围...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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