下载用于背侧深沟槽隔离的额外的掺杂区域的技术资料

文档序号:15265433

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本发明的实施例涉及CMOS图像传感器及相关的形成方法,该图像传感器具有布置在深沟槽隔离结构与图像感测元件之间的掺杂区域。在一些实施例中,CMOS图像传感器具有设置在半导体衬底内的像素区域。像素区域具有配置为将辐射转换为电信号的图像感测元件。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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