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本发明公开了一种适合于光刻机复位用的对准装置及方法，可以实现快速高精度复位对准。目前荷兰ASML最新一代光刻机其专利所采用的是两块同型二维光栅进行对准。本发明则提供另一种采用同型两块散斑玻片替代光栅的方案，一样可以达到高精度对准，甚至超越前...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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