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本发明公开了一种超级结半导体器件及其形成方法。该超级结半导体器件包括：半导体衬底；位于半导体衬底之上的埋层，埋层包括交替排列的、沿第一方向延伸的多个P型条状埋区和多个N型条状埋区；位于埋层之上的超级结器件层，超级结器件层底部包括交替排列的、...
该专利属于比亚迪股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过比亚迪股份有限公司授权不得商用。

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