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一种半导体基片传片时通气降低颗粒的工艺方法及装置，主要解决现有半导体基片在传片时的移动一定程度上会使基片表面存在颗粒增多等问题，本发明提供一种半导体基片传片时通气降低颗粒的工艺方法及装置，该工艺方法是在中低真空室内，使半导体基片位于可移动的...
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