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一种解决波纹管下方残留粉末的方法，主要解决半导体等离子体处理装置中的波纹管下方残留粉末，污染腔体所带来的产品良率降低的问题。该方法采用向加热盘下面的水循环部件通入水温高于常温的热循环水的方法，使得环绕的波纹管底部附近温度升高，颗粒难以冷凝附...
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