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本发明提供梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法，步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑，在梭式窑温度为５００～１４００℃，保温３０～６０分钟时，将盛有水敞口容器置于梭式窑下方的吸火口处，敞口容器的面积不小于吸火口的垂直投影面积。本方法可以很...
该专利属于华南理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过华南理工大学授权不得商用。

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