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用氟硅酸锌制备折射率可变过渡层的方法技术
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文档序号:1466101
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用氟硅酸锌制备折射率可变的过渡层,本项发明所属域为新型光电子材料。为了解决SnO↓[2]:F沉积薄膜的衍射光斑,需要在玻璃与SnO↓[2]:F层之间加入一层透明过渡层薄膜。本发明主要是采用氟硅酸锌,用热喷涂的方法,在加热的玻璃表面,沉积出S...
该专利属于四川大学所有,仅供学习研究参考,未经过四川大学授权不得商用。
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