下载后钝化互连结构及其方法的技术资料

文档序号:14412101

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本发明提供一种半导体器件,包括包含衬底和接合焊盘的管芯。连接层设置在管芯上方。连接层包括支撑焊盘和导电沟道。导电沟道的部分至少部分地穿过支撑焊盘。至少一个介电区域,插入在所述支撑焊盘与所述导电沟道的部分之间。本发明实施例涉及后钝化互连结构及...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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