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本发明涉及一种抛光组合物及其制备、抛光方法，属于微电子制造技术领域领域，特别涉及超硬材料的超精密加工技术领域。本发明抛光组合物包括磨粒、氧化剂、光催化剂、腐蚀剂、抛光稳定剂和水；其中，各组分配比为：磨料为10～30wt％，氧化剂为0.5～1...
该专利属于清华大学;深圳清华大学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学;深圳清华大学研究院授权不得商用。

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