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根据本公开，提供一种用于处理柔性基板的设备。此设备包括处理腔室、涂布滚筒(110)、一个或更多个沉积源以及快门装置(200)，所述涂布滚筒在处理腔室内并配置成支撑柔性基板，所述一个或更多个沉积源布置在处理腔室中，所述快门装置设置在处理腔室内...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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