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本发明公开了一种低温制备氮化硅粉体材料的方法，本发明以叠氮钠作氮源，以卤硅烷作硅源，在反应釜中加热到２５０～５５０℃，使反应物之间发生反应，反应０～５小时后停止加热，自然冷却，然后依次用乙醚、去离子水清洗，以除去残余反应物及反应副产物，然后...
该专利属于山东大学所有，仅供学习研究参考，未经过山东大学授权不得商用。

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