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本发明公开了一种微纳器件的原位构建方法，特别是利用无掩模光刻技术原位构建微纳器件的方法，它是将纳米材料置于电极之间并且与电极相连的一种新方法。其工艺过程为：纳米材料在基底上的分布、匀胶、通过无掩模光刻机定位纳米材料、原位设计曝光图形并曝光、...
该专利属于湖南大学所有，仅供学习研究参考，未经过湖南大学授权不得商用。

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