专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
英特尔公司
>
用于CMOS的双轴向拉伸应变的Ge沟道制造技术
>技术资料下载
下载用于CMOS的双轴向拉伸应变的Ge沟道的技术资料
文档序号:13908051
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种装置,包括:互补金属氧化物半导体(CMOS)反相器,该反相器包括n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET);以及p沟道MOSFET,其中,n沟道MOSFET中的沟道的材料和p沟道MOSFET中的沟道的材料经受双轴向拉伸应变。一种...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。