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衬底台(WT)支撑衬底保持件(WH)，衬底(W)被夹持到衬底保持件(WH)以用于曝光。所述衬底台(WT)具有多个e销(30)，所述多个e销与所述衬底保持件的中心间隔开并且绕所述衬底保持件的中心分布以用于在曝光之前将衬底接纳和降低至所述衬底保...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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