衬底保持件、用于光刻设备的支撑台、光刻设备和器件制造方法技术

衬底台(WT)支撑衬底保持件(WH)，衬底(W)被夹持到衬底保持件(WH)以用于曝光。所述衬底台(WT)具有多个e销(30)，所述多个e销与所述衬底保持件的中心间隔开并且绕所述衬底保持件的中心分布以用于在曝光之前将衬底接纳和降低至所述衬底保持件上、以及在曝光之后升高衬底离开所述衬底保持件。所述e销(30)的顶端部分和对应的孔洞(24)在平面图中具有包括至少一个凹部的形状，例如十字形。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的交叉引用本申请要求于2014年1月20日递交的欧洲专利申请EP14151736.7的权益，并且其公开内容通过引用全文并入本文。
本专利技术涉及衬底保持件、用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及使用光刻设备制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也能够通过将图案压印(imprinting)到本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底保持件，所述衬底保持件具有：上表面；多个凸起，所述多个凸起位于并且分布于所述上表面上，所述凸起配置成用以将衬底支撑在其上；和在所述衬底保持件中的多个孔洞，所述孔洞与所述衬底保持件的中心间隔开；其中，至少一个所述孔洞在所述衬底保持件的上表面处具有包括至少一个凹部的形状；且至少一个凸起位于所述凹部内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.20 EP 14151736.71.一种衬底保持件，所述衬底保持件具有：上表面；多个凸起，所述多个凸起位于并且分布于所述上表面上，所述凸起配置成用以将衬底支撑在其上；和在所述衬底保持件中的多个孔洞，所述孔洞与所述衬底保持件的中心间隔开；其中，至少一个所述孔洞在所述衬底保持件的上表面处具有包括至少一个凹部的形状；且至少一个凸起位于所述凹部内。2.根据权利要求1所述的衬底保持件，其中至少一个所述孔洞在所述上表面处的形状具有至少一种对称度以及多个凹部。3.根据权利要求2所述的衬底保持件，其中至少一个所述孔洞在所述上表面处的形状具有两种反射和/或旋转对称度以及四个凹部。4.根据前述权利要求中任一项所述的衬底保持件，其中至少一个所述孔洞是十字形的。5.根据前述权利要求中任一项所述的衬底保持件，其中设置至少三个孔洞，所述至少三个孔洞具有在所述上表面处的、包括至少一个凹部的形状。6.一种被布置用来支撑衬底保持件的衬底台，所述衬...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·霍本，T·波耶兹，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL