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提供了一种设备，其包括：布置在衬底上并且限定了沟道区域的异质结构，异质结构包括具有小于衬底材料带隙的第一带隙的第一材料，以及具有大于第一带隙的第二带隙的第二材料；以及在沟道区域上的栅极叠置体，其中第二材料布置在第一材料和栅极叠置体之间。提供...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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