温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种FinFet器件源漏外延设备及方法，其中前者包括：主腔室；至少一个装片室；中转腔，中转腔内设置有机械手臂；至少一个腐蚀腔，腐蚀腔中设置有石墨基座；至少一个外延反应腔；用于向主腔室、装片室、中转腔、腐蚀腔和外延反应腔中供应气体...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。