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本发明提供一种版图设计规则的优化方法，针对先进技术节点的研发，通过将初始版图拆分出关键图形，以关键图形作为后续仿真优化的版图，在优化时，通过光源掩模协同优化仿真确定合理的光源和配套掩模版以及优化后的光刻光学模型，而后在该光刻光学模型下对优化...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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