下载金属栅极及其制造方法的技术资料

文档序号:13449061

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本发明提供一种半导体结构,包括:有源区,具有第一表面;隔离区,具有第二表面,隔离区围绕有源区,第一表面高于第二表面;以及金属栅极,具有设置在第一表面和第二表面上方的多个金属层。多个金属层中的至少一个层的最薄部分与最厚部分的比率约大于40%。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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