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一种等离子体装置用部件,其是由基材和形成于该基材上的最表面的氮化铝覆膜构成的、且具有通过冲击烧结法而形成的包含粒径为1μm以下的微小粒子的氮化铝覆膜的等离子体装置用部件,上述基材由金属或陶瓷构成,上述等离子体装置用部件的特征在于,上述氮化铝...该专利属于株式会社东芝;东芝高新材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝;东芝高新材料公司授权不得商用。
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一种等离子体装置用部件,其是由基材和形成于该基材上的最表面的氮化铝覆膜构成的、且具有通过冲击烧结法而形成的包含粒径为1μm以下的微小粒子的氮化铝覆膜的等离子体装置用部件,上述基材由金属或陶瓷构成,上述等离子体装置用部件的特征在于,上述氮化铝...