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本发明提供一种反应腔室及半导体加工设备，在反应腔室内设置有用于承载被加工工件的基座，该基座位于反应腔室的底板上方，其在反应腔室的底板上沿其周向环绕设置有挡环，该挡环用于阻挡滑落的被加工工件，以使其停留在反应腔室的底板上的可视范围内；可视范围...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。