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载置台和等离子体处理装置制造方法及图纸
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下载载置台和等离子体处理装置的技术资料
文档序号:13285954
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在进行等离子体处理时使用的、具有聚焦环(6)的载置台(2)中,抑制由垂直方向的电场引起的聚焦环的削减,从而降低粒子。使载置有玻璃基板G的载置台主体成为侧周面为平坦的柱状的构造,在聚焦环的下方侧,以包围载置台主体且与载置台主体的侧周面接触的方...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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