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一种设备及使用该设备以在工件上形成纳米尺寸特征结构包括了多个可个别偏压的尖端，且各尖端具有10nm的尺度或更小的直径。通过在反应物存在的情况下在工件表面之上移动尖端，特征结构可以次微米尺寸且小于当前光刻术的分辨率而直接形成于工件上。特征结构...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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