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本发明提出一种表面等离子体透镜制作方法，包括：提供基底；在所述基底的上表面形成一定厚度的金属膜层；刻蚀所述金属膜层的上表面以形成一主环形槽；刻蚀所述主环形槽的槽底表面以形成一副环形槽，所述副环形槽沿所述主环形槽的周向形成，所述主环形槽和副环...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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