【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及表面等离子体透镜领域，特别涉及一种单环、向心激发的表面等离子体透镜的制作方法。
技术介绍
目前的表面等离子体透镜大多数采用在金属膜上刻蚀制作出的环形结构实现的。当径向偏振的入射光照射到该环形结构上时，能激发出表面等离子体，激发出的表面等离子体从环上各点向环中心传播，在该中心同相干涉产生一个表面等离子体焦点。但实际上在环上激发的表面等离子体既会向环中心传播，也会向环外传播，而向环外传播的表面等离子体对环中心形成表面等离子焦点没有贡献，导致该表面等离子体透镜效率不高。为了提高效率，现有做法是可以在环的外侧增加反射表面等离子体的结构，虽然能提高效率，但是同时也增加的表面等离子体透镜的复杂性，制作方法复杂，并使该器件的体积增大。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种，解决了现有技术为了提高效率而使表面等离子体透镜的结构复杂，体积大的问题，该表面等离子体透镜结构简单，制作方法简单，体积小，利于小型集成。为解决上述问题，本专利技术提出一种，包括:提供基底；在所述基底的上表面形成一定厚度的金属膜层；刻蚀所述金属膜层的上表面以形成一主环形槽...
【技术保护点】
一种表面等离子体透镜制作方法，其特征在于，包括：提供基底；在所述基底的上表面形成一定厚度的金属膜层；刻蚀所述金属膜层的上表面以形成一主环形槽；刻蚀所述主环形槽的槽底表面以形成一副环形槽，所述副环形槽沿所述主环形槽的周向形成，所述主环形槽和副环形槽的环心连线垂直于所述金属膜层上表面，所述主环形槽的外径大于所述副环形槽的外径，所述副环形槽的底部端面高于所述金属膜层的下表面。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：文静，钟阳万，王康，冯辉，张大伟，
申请(专利权)人：上海理工大学，
类型：发明
国别省市：上海;31
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