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本发明涉及基板清洗方法。[课题]能够得到高的微粒去除性能。[解决手段]本实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序、和去除液供给工序。成膜处理液供给工序向基板供给成膜处理液，所述成膜处理液包含有机溶剂、和含有氟原子且可溶于上述有机溶剂中的...
该专利属于东京毅力科创株式会社;JSR株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社;JSR株式会社授权不得商用。

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