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本实用新型公开了一种兆声波槽，用于清洗硅片，通过在内槽加装两个固定滑轮，与已有的承载滑轮围成容纳硅片的圆形空间，以将硅片限定在圆形空间内仅可旋转，而无法发生位移，使清洗过程中无需担心兆声波或循环水流将硅片冲起，脱离原先位置，因此无需调节，尤...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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