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一种压电体薄膜(1)，其是通过溅射得到的并且由钪铝氮化物制成的。其碳原子含有率为2.5原子％以下。在压电体薄膜(1)的制造时，在至少含有氮气的气氛下，从碳原子含有率为5原子％以下的钪铝合金靶材(10)向基板上(21)同时溅射钪和铝。另外，也...该专利属于株式会社电装;独立行政法人产业技术综合研究所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社电装;独立行政法人产业技术综合研究所授权不得商用。