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本发明涉及具有来自侧壁的特征的处理室，具体提供了一种处理室，该处理室包括具有顶部和侧壁的室壳体。该处理室还具有密封件，该密封件用于将所述室壳体的侧壁连接到位于所述处理室下方的下室的顶部。衬底保持器联结到所述室壳体的侧壁。此外，该处理室具有晶...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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