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本发明公开一种非接触式物理蚀刻系统，其由一工作腔体、一空心腔体、一工作气体供应装置、一等离子产生装置、一第一遮罩、以及一载台所构成。不同于现有的湿式蚀刻设备与干式蚀刻设备，此非接触式物理蚀刻系统不需要事先对靶材(待蚀刻物)执行任何光刻工艺，...
该专利属于紫焰科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过紫焰科技股份有限公司授权不得商用。

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