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描述了一种沉积薄膜于基板上的设备。设备包括基板支撑件，具有外表面，引导基板沿基板支撑件的表面通过第一真空处理区域及至少一第二真空处理区域；对应第一处理区域的第一沉积源与对应该至少一第二真空处理区域的至少一第二沉积源，其中至少第一沉积源包括电...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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