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本发明公开了一种基于双层图形的光学临近效应修正方法，包括以下步骤：首先提供原始版图数据；接着对原始版图数据进行选择性目标尺寸调整；然后判断本层图形和上层图形之间的关系，并对目标图形进行尺寸调整；最后将上述各类结果进行整合，并进行基于模型的光...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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