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本发明提供了一种系统和方法,该方法包括:提供集成电路设计的布局;通过处理器由该布局生成多个多重图案化分解;确定第一掩模和第二掩模之间的最大掩模位移;以及使用由最大掩模位移所限定的范围内的一个或多个掩模位移,对用于多个多重图案化分解中的每个的...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种系统和方法,该方法包括:提供集成电路设计的布局;通过处理器由该布局生成多个多重图案化分解;确定第一掩模和第二掩模之间的最大掩模位移;以及使用由最大掩模位移所限定的范围内的一个或多个掩模位移,对用于多个多重图案化分解中的每个的...