下载衬底处理装置及半导体器件的制造方法的技术资料

文档序号:11854572

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本发明提供一种衬底处理装置,防止设在排气系统中的涡轮分子泵的动作变得不稳定。该衬底处理装置向处理空间供给气体而对衬底进行处理,具有:在上述处理空间的上游侧使上述气体分散的缓冲空间;在将上述衬底向上述处理空间搬运时供上述衬底通过的搬运空间;与...
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