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本发明公开了一种半导体加工设备中气路控制的方法及系统。其中方法包括判断工艺表单中每一气路在不同步骤中的非零气路流量值是否相同；当非零气路流量值不同时，在每一工艺步骤中，根据工艺表单中的每一气路的气路流量值对所有气路的气路流量进行异步设置，并...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。