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本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团...
该专利属于大塚制药株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大塚制药株式会社授权不得商用。

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