制造噁唑化合物的方法技术

本发明专利技术的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明专利技术涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。(1)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
式(12)所示的化合物，其中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈田稔，株木隆志，藤枝茂男，古关直，
申请(专利权)人：大塚制药株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP