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转移衬底的氮化镓基高电子迁移率晶体管制作的方法技术
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下载转移衬底的氮化镓基高电子迁移率晶体管制作的方法的技术资料
文档序号:11335004
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一种转移衬底的氮化镓基高电子迁移率晶体管的制作方法,包括:在衬底上依次生长低温成核层、氮化镓高阻层、高迁移率氮化镓层、氮化铝插入层、铝镓氮势垒层和氮化镓帽层;在氮化镓帽层的表面制备硅、铜或氮化铝的第一导电衬底;将衬底与低温成核层分离;将氮化...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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